【編號】2023-64

【名稱】一種高精度光刻圖案化PVDF基鐵電性介電層的制備與應(yīng)用

【公開（公告）號】CN117082874A                                    

【公開（公告）日期】2023.11.17

【申請（專利權(quán)）人】復(fù)旦大學(xué)

【摘要】本發(fā)明涉及一種高精度光刻圖案化PVDF基鐵電性介電層的制備方法與應(yīng)用，制備方法包括：首先將鐵電性PVDF基聚合物、環(huán)狀或體狀硅氧烷交聯(lián)單體、光引發(fā)劑混合并配制成溶液，得到前驅(qū)體溶液；之后將前驅(qū)體溶液涂覆成膜，并進行圖案化光照，再用顯影劑將未曝光區(qū)域的膜料移除，即得到圖案化PVDF基鐵電性介電層；其中，鐵電性PVDF基聚合物包括PVDF、P(VDF?TrFE)、P(VDF?TrFE?CFE)的至少一種；環(huán)狀或體狀硅氧烷光交聯(lián)單體包括含有丙烯酸、甲基丙烯酸、環(huán)氧官能團的環(huán)四硅氧烷或聚倍半硅氧烷。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明制備的鐵電性介電層具有半互穿結(jié)構(gòu)，薄膜內(nèi)部相分離尺度小于200nm，圖案化分辨率小，精度高；鐵電相結(jié)晶性以及晶疇尺寸與原始PVDF基聚合物薄膜無明顯差異甚至更優(yōu)。