專利發(fā)明
2021年 氟塑料專利匯編
一種基于PTFE對TMDCs進(jìn)行p型摻雜的方法及半導(dǎo)體
【編號】2021-63
【名稱】一種基于PTFE對TMDCs進(jìn)行p型摻雜的方法及半導(dǎo)體
【公開(公告)號】CN113451139A
【公開(公告)日期】2021.09.28
【申請(專利權(quán))人】復(fù)旦大學(xué)
【摘要】本發(fā)明公開了一種基于PTFE對TMDCs進(jìn)行p型摻雜的方法及半導(dǎo)體,屬于先進(jìn)半導(dǎo)體器件技術(shù)領(lǐng)域,方法為:將TMDCs材料轉(zhuǎn)移到含氟的超平PTFE基底上,從而構(gòu)建了一種TMDs和PTFE的垂直異質(zhì)界面,該界面對TMDCs具有高效的空穴摻雜調(diào)控,通過測定轉(zhuǎn)移后的TMDCs的光譜結(jié)構(gòu)和熒光壽命,表征其能帶結(jié)構(gòu)的變化,可確定實現(xiàn)對TMDCs的p型摻雜,獲得p型摻雜的TMDCs半導(dǎo)體,從而擴(kuò)展了在光電或電子器件上的應(yīng)用。本發(fā)明實現(xiàn)了在室溫下對二維TMDCs從n型到p型摻雜的轉(zhuǎn)換,調(diào)節(jié)效果長期、穩(wěn)定且適合大規(guī)模生產(chǎn)要求,方法操作簡便,具有單原子層可控?fù)诫s精度,通過含氟化合物的強(qiáng)電負(fù)性效應(yīng)實現(xiàn)對二維TMDCs的空穴摻雜型。