【編號(hào)】2020-31
　　【名稱】一種PVDF基復(fù)合薄膜及其制備方法
      【公開（公告）號(hào)】CN111040212A
　　【公開（公告）日期】2020.04.21
　　【申請(qǐng)（專利權(quán)）人】南京航空航天大學(xué)
       【摘要】本發(fā)明公開了一種PVDF基復(fù)合薄膜及其制備方法，涉及電介質(zhì)領(lǐng)域，能夠提高復(fù)合薄膜的擊穿強(qiáng)度和儲(chǔ)能密度。本發(fā)明采用層層自組裝技術(shù)形成多層有序的三明治結(jié)構(gòu)，各個(gè)異質(zhì)功能層分別以高介電的P(VDF?TrFE?CTFE)為三明治結(jié)構(gòu)的頂層和底層，然后利用低介電、高擊穿場(chǎng)強(qiáng)的交聯(lián)化不飽和P(VDF?CTFE?DB)為三明治結(jié)構(gòu)的中間層。頂部和底部的高介電P(VDF?TrFE?CTFE)能為復(fù)合薄膜提供較大的電位移，中間層的交聯(lián)結(jié)構(gòu)能有效抑制薄膜在高電場(chǎng)下電荷的聚集，將異質(zhì)層界面電場(chǎng)重新進(jìn)行分配，并且阻礙電樹枝的進(jìn)一步發(fā)展，提高復(fù)合薄膜的擊穿強(qiáng)度。同時(shí)，本發(fā)明制備工藝簡(jiǎn)單，在實(shí)現(xiàn)高儲(chǔ)能性能的同時(shí)也避免了一些制備工藝復(fù)雜、高成本的無機(jī)納米材料的使用，且最大限度保持了薄膜的柔軟性和耐久性。