【編號(hào)】2011-16
　　【名稱】采用電弧離子鍍技術(shù)在聚四氟乙烯表面鍍導(dǎo)電薄膜的方法
　　【申請(專利權(quán))人】中國航天科技集團(tuán)公司第五研究院第五一○研究所
　　【公開(公告)日】2011.02.02
　　【公開(公告)號(hào)】CN101962748A
　　【摘要】本發(fā)明涉及采用電弧離子鍍技術(shù)在聚四氟乙烯表面鍍導(dǎo)電薄膜的方法，屬于表面工程技術(shù)領(lǐng)域。利用電弧離子鍍技術(shù)，依次采用加熱工件、離子束清洗和鍍過渡層的方法，在聚四氟乙烯表面鍍導(dǎo)電薄膜，將聚四氟乙烯工件放入到真空室內(nèi)，加熱；導(dǎo)入Ar和O2的混合氣體；打開離子源對聚四氟乙烯工件進(jìn)行離子束清洗；關(guān)閉離子源和供氣系統(tǒng)，打開Cr或NiCr電弧源，鍍Cr或NiCr過渡層；關(guān)閉Cr或NiCr電弧源；加脈沖偏壓，打開Al、Cu或Au電弧源，鍍Al、Cu或Au導(dǎo)電薄膜。本發(fā)明在聚四氟乙烯表面鍍金屬導(dǎo)電薄膜具有薄膜致密、附著牢固、厚度均勻可控和可以實(shí)現(xiàn)復(fù)雜曲面工件鍍膜等優(yōu)點(diǎn)，達(dá)到了工程應(yīng)用水平。