【編號】2015-70
　　【題名】KNN/PVDF納米復合膜的制備及介電性能研究
　　【作者】鄭茂梅，溫阿利，謝方圓等
　　【機構】四川大學材料科學與工程學院
　　【刊名】功能材料（2015年，11期）
　　【文摘】采用聚合物前驅體法合成了K0.5Na0.5NbO3(KNN)納米粉體。X射線衍射(XRD)和掃描電子顯微鏡(SEM)分析表明，制備出的 KNN 粉體為單一的純鈣鈦礦結構，并且其晶粒尺寸在15~25nm之間。采用溶液混合法制備了KNN/聚偏氟乙烯(KNN/PVDF)納米復合膜，研究了KNN納米粉體的含量對復合膜微觀形貌和介電性能的影響.結果表明，KNN納米粉體均勻地分散在聚偏氟乙烯(PVDF)基體中，KNN/PVDF復合膜材料的介電常數(shù)和介電損耗均隨著KNN含量的增加而增加。在1kHz下，當KNN質量分數(shù)為20％時，復合膜的介電性能較為優(yōu)越，其介電常數(shù)為29.9，介電損耗為0.053。