【編號(hào)】2023-26

【題名】高介電常數(shù)超薄PTFE/TiO₂復(fù)合薄膜的厚度均勻性研究

【作者】金霞，馮春明，賈倩倩等

【機(jī)構(gòu)】中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十六研究所

【刊名】塑料科技（2023年04期）

【文摘】采用涂覆工藝制備聚四氟乙烯/二氧化鈦(PTFE/TiO₂)復(fù)合薄膜，針對(duì)TiO₂粉體密度大容易沉降問題，探究漿料總量、漿料黏度、涂覆速率的壓力差等因素對(duì)成膜厚度均勻性的影響。結(jié)果表明：在涂覆速度為0.20m/s條件下，漿料黏度范圍為969～1139mPa?s(測(cè)試轉(zhuǎn)速20r/min)時(shí)，制備了目標(biāo)厚度(55±10)μm的PTFE/TiO₂復(fù)合薄膜。通過掃描電鏡觀察，PTFE/TiO₂復(fù)合薄膜的表面均勻平整，TiO₂分散性良好,成膜質(zhì)量良好。復(fù)合薄膜的相對(duì)介電常數(shù)、薄膜拉伸強(qiáng)度、斷裂伸長(zhǎng)率的離散系數(shù)均≤5％，證明制備的薄膜的介電性能和力學(xué)性能一致性良好。